無掩膜/激光直寫光刻機

簡要描述：無掩膜/激光直寫光刻機參數(shù)：1. 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器
2. 線寬：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm3. 光刻效率：可達到3000mm2/min@5μm4. XY行程：55~205mm5. 樣品尺寸：最小3mm*3mm 最大8 inch6.應用領域：生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光學元件、*進芯片封裝、光通訊。

產(chǎn)品型號：UV Litho-ACA
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2024-09-06
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1.產(chǎn)品概述：

利用紫外光源對紫外敏感的光刻膠進行空間選擇性的曝光，進而將設計好電路版圖轉(zhuǎn)移到硅片上形成集成電路，這一工藝就是紫外光刻技術。光刻機的分辨率和套刻精度直接決定了所制造的集成電路的集成度，也成為了評價光刻設備品質(zhì)的關鍵指標。激光直寫設備具備很高的靈活性，且可以達到較高的精度，但由于是逐行掃描，曝光效率較低。托托科技的無掩模版光刻設備基于空間光調(diào)制器（DMD/DLP）的技術，實現(xiàn)了高速、高精度、高靈活性的紫外光刻。

2.產(chǎn)品參數(shù)：

光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器

線寬：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm

光刻效率：可達到3000mm2/min@5μm

XY行程：55~205mm

樣品尺寸：最小3mm*3mm 最大8 inch

應用領域：生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光學元件、*進芯片封裝、光通訊芯片光刻

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