一、產(chǎn)品概述：

Nikon S204B 掃描式光刻機是一款高效的半導體制造設備，專為 200mm 晶圓的生產(chǎn)設計。該機型采用先進的掃描光刻技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和精確的圖案轉(zhuǎn)移，廣泛應用于集成電路、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其快速曝光速度和良好的穩(wěn)定性，S204B 非常適合大批量生產(chǎn)。同時，其用戶友好的操作界面和自動化功能降低了操作難度，提升了生產(chǎn)效率，使得 Nikon S204B 成為現(xiàn)代半導體制造過程中的重要工具，滿足行業(yè)對高質(zhì)量和高效率的需求。

二、設備用途/原理：

該設備通過高強度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線，經(jīng)過高分辨率光學系統(tǒng)，精確地掃描掩模并將圖案投影到晶圓上。曝光后，光刻膠的化學性質(zhì)發(fā)生變化，隨后進行顯影，去除未曝光或已曝光的光刻膠，從而形成所需的圖案。接著，利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。通過這一系列步驟，Nikon S204B 能夠高效地實現(xiàn)復雜圖形的精確轉(zhuǎn)移，滿足現(xiàn)代半導體制造的高標準要求。

三、主要技術(shù)指標：

四、設備特點

Nikon S204B掃描式光刻機

光源波長248nm

分辨率優(yōu)于0.18µm

主要用于4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線

廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等