一、產(chǎn)品概述：

Nikon S308F 掃描式光刻機是一款高性能的設(shè)備，專為先進(jìn)半導(dǎo)體制造而設(shè)計，適用于 300mm 晶圓的生產(chǎn)。該機型采用了先進(jìn)的掃描技術(shù)和高分辨率光學(xué)系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)精準(zhǔn)的圖案轉(zhuǎn)移，滿足現(xiàn)代集成電路和微機電系統(tǒng)的制造需求。其快速的曝光速度和高生產(chǎn)效率使其適合大批量生產(chǎn)，同時用戶友好的操作界面和自動化功能也降低了操作難度。憑借其穩(wěn)定性和可靠性，Nikon S308F 在復(fù)雜的制造環(huán)境中表現(xiàn)出色，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)。

二、設(shè)備用途/原理：

該設(shè)備以其高分辨率和高效的曝光能力，確保了在先進(jìn)制造領(lǐng)域的應(yīng)用。該設(shè)備利用高強度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。首先，光源發(fā)出特定波長的光線，通過高分辨率的光學(xué)系統(tǒng)，掃描掩模并將其圖案精確投影到晶圓上。曝光后，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，接著進(jìn)行顯影過程，去除未曝光或已曝光的光刻膠，形成所需圖案。隨后，利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。通過這種方式，Nikon S308F 能夠高效地實現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移，滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的需求。

三、主要技術(shù)指標(biāo)：

四、設(shè)備特點

Nikon S308F掃描式光刻機

光源波長193nm

分辨率優(yōu)于0.07µm

主要用于4寸、6寸、8寸及12寸生產(chǎn)線

廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等域