1. 產(chǎn)品概述

iTops PVD ITO 濺射系統(tǒng),加熱能力、精確的溫度控制、優(yōu)異的真空能力。

2. 設備用途/原理

iTops PVD ITO 濺射系統(tǒng)，加熱能力、精確的溫度控制、優(yōu)異的真空能力，高晶體質(zhì)量的氮化鋁薄膜及優(yōu)異的薄膜厚度均勻性，占地面積小，結(jié)構(gòu)簡單，操作靈活，維修方便，設備穩(wěn)定，稼動率高，運營成本低。

3. 設備特點

晶圓尺寸  2/4/6 英寸兼容。適用材料  氮化鋁。適用工藝  氮化鋁緩沖層濺射。適用域  化合物半導體。百科：?半導體濺射系統(tǒng)的原理主要是利用高能離子撞擊靶材，使靶材的原子或分子從表面逸出，并沉積在半導體基片上，形成一層薄膜。濺射技術(shù)可以分為多種類型，包括直流濺射、交流濺射、反應濺射和磁控濺射等，不同類型的濺射技術(shù)適用于不同的應用場景。例如，直流濺射適用于導電材料的鍍膜，而交流濺射則適用于導電性較差的材料。反應濺射可以在濺射過程中引入反應氣體，以形成特定的化合物薄膜。磁控濺射則通過加入磁場來控制電子的運動路徑，提高濺射效率和薄膜質(zhì)量。