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等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備

簡要描述:RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設(shè)備,可處理多達ø350毫米的載盤,用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應(yīng)用提供了堅固可靠的硬件和工藝控制,具有較高的生產(chǎn)率,如功率器件、微型LED、VCSEL、LD、電容器和射頻濾波器。

  • 產(chǎn)品型號:RIE-350iPC
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 346

詳細介紹

1. 產(chǎn)品概述

RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設(shè)備,可處理多達?350毫米的載盤,用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應(yīng)用提供了堅固可靠的硬件和的工藝控制,具有較高的生產(chǎn)率,如功率器件、微型LED、VCSEL、LD、電容器和射頻濾波器。

2. 設(shè)備用途/原理

GaN、GaAs、InP和SiC的高精度蝕刻,SiN和SiO2的蝕刻電介質(zhì)和金屬的蝕刻,用于HBLED的PSS(圖案化藍寶石襯底)加工。

3. 設(shè)備特點

大加工范圍:?350 mm (?3" x 12, ?4" x 8, ?12" x 1)。先進的ICP源HSTC™(Hyper Symmetrical Tornado Coil)能有效地提供均勻的高密度等離子體,并在大面積上具有優(yōu)異的蝕刻均勻性。對稱的疏散設(shè)計與TMP相結(jié)合,形成了高效的流動。優(yōu)化的氣體歧管,提供工藝氣體的均勻性。可選的光學/干涉式端點檢測系統(tǒng)可實現(xiàn)對多個工藝運行的精確蝕刻深度控制。

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