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簡要描述：產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途：用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。
產(chǎn)品型號：PVD400廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2024-09-05訪 問 量： 244產(chǎn)品分類
Product Category詳細介紹
1.產(chǎn)品概述：
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
2.設備用途：
用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
3.真空室：
真空室結構:方形開門
真空室尺寸:φ400x400x400mm
限真空度:≤6.6E-5Pa
沉積源:永磁靶3套，φ2英寸
樣品尺寸，溫度:φ4英寸，1片，高800℃
樣品臺：擁有可旋轉(zhuǎn)或者可移動的樣品臺，以便均勻的沉積薄膜。
占地面積（長x寬x高）:約1.8米×1.7米×2米
電控描述:全自動采用先進的控制系統(tǒng)，方便用戶設置和調(diào)整工藝參數(shù)，如蒸發(fā)溫度、沉積時間等。
工藝:片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%
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