1.設備概述

EC400高真空蒸發(fā)鍍膜設備是一臺高精度的蒸發(fā)鍍膜設備，主要用于在物體表面形成一層均勻的薄膜，以改變物體的性質和外觀。該設備利用高真空環(huán)境下的物理過程，將金屬材料蒸發(fā)成氣體，并在物體表面沉積形成薄膜。

2.主要組成部分

真空室：用于提供高真空環(huán)境，確保蒸發(fā)源和物體表面之間沒有氣體分子的干擾。

蒸發(fā)源：內置金屬材料（如銅、鋁、銀、金等），通過加熱使其蒸發(fā)成氣體。

膜厚監(jiān)測儀：用于實時監(jiān)測薄膜的厚度，確保薄膜質量符合要求。

樣品臺：用于放置待處理的物體，確保其在鍍膜過程中的穩(wěn)定性和位置準確性。

真空獲得系統(tǒng)：包括真空泵等組件，用于將真空室抽成高真空狀態(tài)。

真空測量系統(tǒng)：用于測量真空室內的氣體壓力等參數(shù)，確保設備的安全運行。

氣路系統(tǒng)：用于向真空室內通入工藝氣體，如氮氣等，以調節(jié)鍍膜環(huán)境。

PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)：實現(xiàn)設備的自動化控制和操作，提高工作效率和鍍膜質量。

3.技術特點

高真空環(huán)境：確保蒸發(fā)源和物體表面之間沒有氣體分子的干擾，提高鍍膜質量。

高精度控制：通過PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)，實現(xiàn)蒸發(fā)源加熱溫度、沉積時間等參數(shù)的精確控制。

多功能性：可制備多種類型的薄膜，如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。

結構緊湊：設備主機與控制一體化設計，操控方便；結構緊湊，占地面積小。

4.應用域

EC400高真空蒸發(fā)鍍膜設備在多個域具有廣泛的應用，包括但不限于：

納米薄膜制備：用于開發(fā)納米單層、多層及復合膜層等。

材料科學：制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等，如銀、鋁、銅、C60、BCP等材料的薄膜。

高校與科研院所：用于教學、科研實驗及新產(chǎn)品開發(fā)等。

工業(yè)生產(chǎn)：在鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV太陽能電池等行業(yè)中，用于制備高質量的薄膜材料。