CMP后清洗機(jī)

簡(jiǎn)要描述：GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。

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詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述

適用晶圓尺寸:200mm(8")和300mm(12")

配置:獨(dú)立配置4個(gè)清洗工位，DIW刀預(yù)清洗，2個(gè)雙面滾刷清洗，N2吹旋轉(zhuǎn)漂洗干燥(可選分離式QDR)清潔器尺寸:1,970W 975D 1,380Hmm

電刷尺寸:70(外徑)32(內(nèi)徑)320(長(zhǎng))毫米

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗，工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學(xué)：nh4oh（<1%）或DIW

刷型:雙面PVA刷

轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30 ~ 300rpm

化學(xué)品供應(yīng):4個(gè)噴嘴和通過刷子

可用化學(xué):2化學(xué)[NH4OH]

化學(xué)品流量:滿量程< 1L/min

DI流量:滿量程<5L/min

轉(zhuǎn)站

旋轉(zhuǎn)速度:高2500轉(zhuǎn)/分DIW沖洗/ N2吹

控制工藝:自動(dòng)上片，自動(dòng)順序，濕進(jìn)/干出

程序控制:PC & PC觸摸監(jiān)控，程序可編程，計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)可比

產(chǎn)品咨詢

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