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12英寸槽式清洗設(shè)備

簡要描述:12英寸槽式清洗設(shè)備Pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源柜等組成。傳輸模塊將晶圓傳送到位置,可同時傳送50片,工藝模塊用于清洗和蝕刻,藥液供給模塊用于高精度藥液配比、加熱、供給、濃度監(jiān)測。

  • 產(chǎn)品型號:Pinnacle300
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 515

詳細介紹

1. 產(chǎn)品概述:

12英寸槽式清洗設(shè)備Pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源柜等組成。傳輸模塊將晶圓傳送到位置,可同時傳送50片,工藝模塊用于清洗和蝕刻,藥液供給模塊用于高精度藥液配比、加熱、供給、濃度監(jiān)測。

2. 設(shè)備應(yīng)用

晶圓尺寸

12英寸

適用材料

光阻、單晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金屬膜、金屬氧化物

適用工藝

爐前、刻蝕/拋光后清洗、光阻、金屬氧化物、氮化物去除、控擋片回收

適用領(lǐng)域

集成電路、功率半導體、襯底材料、硅基微顯示

3. 特色參數(shù):

清洗槽數(shù)量:通常具有多個清洗槽,以實現(xiàn)不同的清洗工藝步驟,例如可能有多個化學清洗槽、純水沖洗槽等。

 12英寸槽式清洗設(shè)備清洗方式:可支持多種清洗方式,如化學清洗、兆聲清洗等,以有效去除晶圓表面的各種污染物。

 溫度控制:具備精確的溫度控制能力,可在一定溫度范圍內(nèi)對清洗液或工藝過程進行溫度調(diào)節(jié),滿足不同清洗工藝的需求。

 工藝時間:能夠?qū)γ總€清洗步驟的時間進行精確設(shè)定和控制,確保清洗效果的一致性。

 晶圓尺寸:適用于 12 英寸晶圓清洗,能很好地滿足大尺寸晶圓的清洗要求。

 自動化程度:具有較高的自動化水平,可實現(xiàn)晶圓的自動傳輸、定位和清洗過程的自動控制,提高生產(chǎn)效率和減少人為操作誤差

4. 設(shè)備特點

可配備多藥液工藝槽,支持DIO?等附屬功能

軟件量身定制,具備快速更新能力

較高的溫度控制穩(wěn)定性

超高的補水精度

精準的蝕刻速率控制

優(yōu)秀的干燥效果



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