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激光直寫光刻機是一種先進的光刻技術(shù)，用于微電子制造和納米加工領(lǐng)域。它利用高能激光束直接將圖案投射到光敏材料上，實現(xiàn)高精度、高分辨率的圖案轉(zhuǎn)移。原理基于激光器發(fā)射出的高能激光束。激光束經(jīng)過光學(xué)系統(tǒng)聚焦后，通過光掩膜或計算機控制的光束形狀器件進行調(diào)節(jié)，然后準確地照射到待加工的光敏材料上。激光束的高能量密度使得光敏材料在受光區(qū)域發(fā)生化學(xué)或物理變化，形成所需的圖案。這個過程可以實現(xiàn)非常細致的圖案結(jié)構(gòu)，具有高分辨率和高加工精度。激光直寫光刻機廣泛應(yīng)用于微電子制造和納米加工領(lǐng)域。在集成電...