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iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng)，采用托盤形式，可兼容 2/4/6 英寸,工藝溫度在 0~700℃之間。

卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)裝置在真空狀態(tài)中對PET Film，以ITO或Metal Coating的設備, Heating, Plasma Etching, Sputter工序可以.

卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)是在真空狀態(tài)下用于micro phone的厚度為4u Film的Gold(AU)做Sputtering的設備.

部件鍍膜設備是在真空狀態(tài)下在產(chǎn)品外部涂層非導電體的Coating設備，由真空內(nèi)產(chǎn)品做著自傳，公轉,并能保持一定的膜厚度.

它實現(xiàn)高大量生產(chǎn)性的高真空基本Sputter - 可以生產(chǎn)1Batch/900EA以上的產(chǎn)品，以沉積及Sputter工序的*化，提升EMI莫品質(zhì) - 證明“沉積-Sputter-沉積-Sputter”的工序連接的優(yōu)秀性（Zero Defects化），因精密的機器設置及優(yōu)秀的設備耐用性保持，維護周期長，價格便宜。

部件鍍膜設備實現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產(chǎn)品 Loading可以，以In-Line Sputter工程的最佳化摸品質(zhì)提高- 以Both Side Sputtering 實現(xiàn),量產(chǎn)性和品質(zhì)證明(透過率25%以上)，精密儀器安裝及優(yōu)秀設備耐用性保持,維修時間長,費用低廉。