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部件鍍膜設(shè)備KaLine 8V是在真空狀態(tài)中向產(chǎn)品外部涂層非導(dǎo)體的設(shè)備,在真空內(nèi)產(chǎn)品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構(gòu)成的.

Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標(biāo)準(zhǔn)尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。當(dāng)顆粒物是一個主要問題時，水平配置優(yōu)先。水平和垂直配置均可用于 3D 涂層的雙軸旋轉(zhuǎn)。通過每次運(yùn)行的沉積面積來衡量的吞吐量范圍從幾百平方英寸到超過 2000 平方英寸，并且還提供更大的定制系統(tǒng)。

概述 針對有機(jī)材料沉積進(jìn)行了優(yōu)化 多達(dá) 12 個 LTE 信號源;1cc、10cc或35cc容量 主體與摻雜劑比 1000：1 多達(dá) 4 個熱蒸發(fā)源 基板快門 自動基板、掩膜存儲和更換 高溫計(jì)端口 手套箱接口設(shè)計(jì)，帶滑動前門和滑動后門 KJLC eKLipse™ 控制軟件 速率控制分辨率 0.05Å/s 基于配方的基于 PC 的系統(tǒng)控制 低溫泵高真空泵 2位閘閥

Kurt J. Lesker Company 的有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺是一種成熟、堅(jiān)固和多功能的設(shè)計(jì)。SPECTROS建立在原始設(shè)計(jì)的成功基礎(chǔ)上，改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時間。腔室設(shè)計(jì)、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實(shí)時配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能。

Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺在全球擁有100多臺設(shè)備，是一種成熟、堅(jiān)固和多功能的設(shè)計(jì)。Mini SPECTROS建立在原始設(shè)計(jì)的成功基礎(chǔ)上，改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時間。技術(shù)的腔室設(shè)計(jì)、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實(shí)時配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能，這些

Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計(jì)特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實(shí)惠的價格點(diǎn)，同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質(zhì)量。