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Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)有效提高靶材利用率。

HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)，半導(dǎo)體客戶端機(jī)臺(tái)裝機(jī)量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺(tái).可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案.優(yōu)異的工藝技術(shù)支持。

Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性,腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，具備良好的防酸腐蝕能力。

EPEE系列 等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 單片和多片式架構(gòu)，滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求高效遠(yuǎn)程等離子體清洗系統(tǒng)，優(yōu)異的顆粒控制.滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求.

MARS iCE115碳化硅外延系統(tǒng)主要用于4、6英寸SiC外延工藝。采用水平熱壁式技術(shù)路線，應(yīng)用優(yōu)良的控溫、控壓算法和專業(yè)的進(jìn)氣、混流結(jié)構(gòu)，使得整個(gè)外延工藝過程中熱場(chǎng)和氣流場(chǎng)均勻穩(wěn)定。工藝指標(biāo)如厚度均勻性、摻雜濃度均勻性、缺陷密度等均達(dá)到了行業(yè)優(yōu)良水平。

Satur系列 多片式MOCVD系統(tǒng)，優(yōu)異的均勻性、一致性、穩(wěn)定性控制，MOCVD 即金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積，是一種用于生長(zhǎng)化合物半導(dǎo)體薄膜的技術(shù)。它通過將Ⅲ族元素的有機(jī)化合物和氨氣或氧氣等作為晶體生長(zhǎng)源材料，以熱分解反應(yīng)方式在襯底上進(jìn)行氣相外延，生長(zhǎng)各種化合物半導(dǎo)體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。