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Propel HVM GaN MOCVD 系統(tǒng)，用于電源、5G 射頻和光子學(xué)，單晶圓反應(yīng)器技術(shù)為電源、5G 射頻和光子學(xué)應(yīng)用提供高效、高質(zhì)量的氮化鎵基器件

用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。

Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過專門設(shè)計(jì)，可最大限度地減少多用戶研究環(huán)境中可能發(fā)生的任何交叉污染。 TFS 500 是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個(gè) Beneq 反應(yīng)器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多項(xiàng)目環(huán)境的理想工具。

Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統(tǒng)，專門用于涂覆大型板材和復(fù)雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 P1500 用于大直徑基板上的光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應(yīng)用。

Beneq P800 專門設(shè)計(jì)用于涂覆復(fù)雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應(yīng)用。

Beneq P400A 專為以優(yōu)化的批量大小涂覆不同類型的基材而設(shè)計(jì) - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環(huán)時(shí)間內(nèi)保持出色的均勻性。我們的客戶將 P400A 用于光學(xué)鍍膜和在玻璃或金屬板上使用 ALD 的應(yīng)用。