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  • GNP CEANER-412SCMP后清洗機(jī)

    GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站,設(shè)計(jì)緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號:GNP CEANER-412S
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:378
  • GNP CLEANER-412RCMP后清洗機(jī)

    GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站,設(shè)計(jì)緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。

    更新時(shí)間:2024-09-04
    型號:GNP CLEANER-412R
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:383
  • GNP CLEANER-428LCMP后清洗機(jī)

    GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站,設(shè)計(jì)緊湊,占地面積小,可清洗(4“~8“)晶圓。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號:GNP CLEANER-428L
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:319
  • GNP CLEANER-812LCMP后清洗機(jī)

    GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站,設(shè)計(jì)緊湊,占地面積小,可清洗(8“~12”)晶圓。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號:GNP CLEANER-812L
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:391
  • 3300系列晶圓濕法清洗工作臺

    WaferStorm平臺是先進(jìn)封裝、MEMS、射頻、數(shù)據(jù)存儲和光子學(xué)市場中許多關(guān)鍵溶劑型工藝的行業(yè)選擇。有 2 個(gè)版本——手動(dòng)加載 (ML) 和 3300 系列平臺。ML系統(tǒng)非常適合研發(fā)和試驗(yàn)環(huán)境。3300 系列平臺是該行業(yè)的大批量主力軍。

    更新時(shí)間:2024-09-06
    型號:3300系列
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:358
  • 80 Plus條形等離子清潔系統(tǒng)

    80 Plus 條形等離子清潔系統(tǒng)專為半導(dǎo)體加工而開發(fā),可支持手動(dòng)及自動(dòng)操作,兩種操作方式均簡單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站;此外,每個(gè)裝卸站都可支持不同的配置。即便沒有裝卸站,也可將其集成到生產(chǎn)線中。

    更新時(shí)間:2024-09-05
    型號:80 Plus
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:279
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