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適用于光電應(yīng)用的 Lumina AS/P 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)

適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積 數(shù)據(jù)存儲制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積 （IBD） 系統(tǒng)大幅提高 80Gb/in2 傳感器的產(chǎn)量，并滿足未來 TFMH 設(shè)備制造的需求。

光掩模制造需要高水平的顆?？刂?，同時(shí)沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來，Veeco 已成功服務(wù)于光掩模市場，多年的學(xué)習(xí)造就了當(dāng)今先進(jìn)的系統(tǒng)。IBD-LDD 系統(tǒng)是當(dāng)今 EUV 掩模坯料上的鉬 （Mo） 和硅 （Si） 多層沉積和釕 （Ru） 封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進(jìn)薄膜的掩模應(yīng)用。

EvoVac PVD 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個(gè)大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強(qiáng)。EvoVac 物理氣相沉積平臺是我們具有可定制性的單腔室平臺，因此它可以配備用于特定應(yīng)用的工具，也可以成為適合您實(shí)驗(yàn)室中各種用戶的多功能多源沉積主力。

EC400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，專為薄膜制備與研究設(shè)計(jì)。其核心組件包括真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)，以及先進(jìn)的PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)。該設(shè)備采用一體化設(shè)計(jì)，將主機(jī)與控制單元緊密結(jié)合，不僅操作簡便，而且結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，非常適合實(shí)驗(yàn)室環(huán)境使用。

Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng)，Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應(yīng)更多的工藝增強(qiáng)功能。您的研究目標(biāo)、生產(chǎn)需求和/或應(yīng)用最終目標(biāo)將告知如何裝備您的 Amod PVD 平臺。